Fyzikální depozice z plynné fáze: Porovnání verzí

← Přejít na předchozí porovnání Přejít na další porovnání →

Smazaný obsah Přidaný obsah

V textu

Verze z 13. 2. 2015, 18:05

Fyzikální depozice z plynné fáze (anglicky Physical Vapour Deposition, zkratka PVD) je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik chemické depozice, kdy jsou reaktanty v plynné fázi).

Mezi tyto techniky patří:

Vakuové napařování
Depozice elektronovým svazkem
Pulsní laserová depozice (PLD)
Naprašování

Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve vakuu či kontrolované atmosféře při tlacích 10^-4 až 100 Pa.

Pahýl

Tento článek je příliš stručný nebo postrádá důležité informace.
Pomozte Wikipedii tím, že jej vhodně rozšíříte. Nevkládejte však bez oprávnění cizí texty.

@@ Řádek 1: / Řádek 1: @@
-'''Fyzikální depozice z plynné fáze''' ({{vjazyce|en}} ''Physical Vapour Deposition'', zkratka '''PVD''') je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik [[Chemická depozice z plynné fáze|Chemické depozice]], kdy jsou reaktanty v plynné fázi).
+'''Fyzikální depozice z plynné fáze''' ({{vjazyce|en}} ''Physical Vapour Deposition'', zkratka '''PVD''') je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik [[chemická depozice z plynné fáze|chemické depozice]], kdy jsou reaktanty v plynné fázi).
 Mezi tyto techniky patří:
@@ Řádek 8: / Řádek 8: @@
 * Naprašování
-Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve [[vakuum|vakuu]] či kontrolované atmosféře při tlacích 10e-4 až 100 Pa.
+Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve [[vakuum|vakuu]] či kontrolované atmosféře při tlacích 10<sup>-4</sup> až 100&nbsp;[[Pascal (jednotka)|Pa]].
 {{Pahýl}}
+{{Portály|Fyzika}}
 [[Kategorie:Fyzika kondenzovaného stavu]]