Fyzikální depozice z plynné fáze

Z Wikipedie, otevřené encyklopedie
Skočit na navigaci Skočit na vyhledávání

Fyzikální depozice z plynné fáze (anglicky Physical Vapour Deposition, zkratka PVD) je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik chemické depozice, kdy jsou reaktanty v plynné fázi).

Mezi tyto techniky patří:

  • Vakuové napařování
  • Depozice elektronovým svazkem
  • Pulsní laserová depozice (PLD)
  • Naprašování

Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve vakuu či kontrolované atmosféře při tlacích 10−4 až 100 Pa.