Fyzikální depozice z plynné fáze: Porovnání verzí

Skočit na navigaci Skočit na vyhledávání
m
+text, +kategorie
m (začátek)
m (+text, +kategorie)
'''PVD''' ({{vjazyce|en}} ''Physical Vapour Deposition'') je technologie povlakování, založena na fyzikálním principu.
Jedná se o odpařování nebo odprašování kovů v řízené atmosféře. Částice, které mají být nanášeny, jsou vyráženy za zdroje ({{vjazyce|en}} target) působením elektrického oblouku, plazmového výboje, laseru či elektronového paprsku nebo odpařením za zvýšené teploty. Celý proces povlakování jeprobíhá zpravidla ve [[vakuum|vakuu]] při tlaku 0,1 až 1 Pa a při teplotě do 500 °C. Přesto, že původně byla metoda určena k povlakování řezných nástrojů z [[rychlořezná ocel|rychlořezné oceli]], jsou dnes touto metodou povlakovány i [[slinutý karbid|slinuté karbidy]] a další materiály.
 
{{Pahýl}}
 
[[Kategorie:Fyzika kondenzovaného stavu]]
[[Kategorie:Povrchové úpravy]]

Navigační menu