Fyzikální depozice z plynné fáze: Porovnání verzí

Z Wikipedie, otevřené encyklopedie
Smazaný obsah Přidaný obsah
Bez shrnutí editace
typo úprava + kat. + pahýl + ztučnění
Řádek 1: Řádek 1:
Technologie povlakování PVD (Physical Vapour Deposition) je založena na fyzikálním principu.
Technologie povlakování '''PVD''' ({{vjazyce|en}} ''Physical Vapour Deposition'') je založena na fyzikálním principu.
Jedná se o odpařování nebo odprašování kovů v řízené atmosféře. Celý proces povlakování je zpravidla ve [[vakuum|vakuu]] při tlaku 0,1 až 1 Pa a při teplotě do 500 °C. Přesto, že původně byla metoda určena k povlakování řezných nástrojů z [[rychlořezná ocel|rychlořezné oceli]], jsou dnes touto metodou povlakovány i [[slinutý karbid|slinuté karbidy]].
Jedná se o odpařování nebo odprašování kovů v řízené atmosféře. Celý proces povlakování je zpravidla ve [[vakuum|vakuu]] při tlaku 0,1 až 1 Pa a při teplotě do 500 °C. Přesto, že původně byla metoda určena k povlakování řezných nástrojů z [[rychlořezná ocel|rychlořezné oceli]], jsou dnes touto metodou povlakovány i [[slinutý karbid|slinuté karbidy]].

{{Pahýl}}

[[Kategorie:Fyzika kondenzovaného stavu]]

Verze z 18. 6. 2013, 21:50

Technologie povlakování PVD (anglicky Physical Vapour Deposition) je založena na fyzikálním principu.

Jedná se o odpařování nebo odprašování kovů v řízené atmosféře. Celý proces povlakování je zpravidla ve vakuu při tlaku 0,1 až 1 Pa a při teplotě do 500 °C. Přesto, že původně byla metoda určena k povlakování řezných nástrojů z rychlořezné oceli, jsou dnes touto metodou povlakovány i slinuté karbidy.