Fyzikální depozice z plynné fáze: Porovnání verzí

Smazaný obsah Přidaný obsah

V textu

Aktuální verze z 6. 8. 2021, 13:26

Fyzikální depozice z plynné fáze (anglicky Physical Vapour Deposition, zkratka PVD) je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik chemické depozice, kdy jsou reaktanty v plynné fázi).

Mezi tyto techniky patří:

Vakuové napařování
Depozice elektronovým svazkem
Pulsní laserová depozice (PLD)
Naprašování

Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve vakuu či kontrolované atmosféře při tlacích 10⁻⁴ až 100 Pa.

Externí odkazy[editovat | editovat zdroj]

Obrázky, zvuky či videa k tématu PVD na Wikimedia Commons

Pahýl

Tento článek je příliš stručný nebo postrádá důležité informace.
Pomozte Wikipedii tím, že jej vhodně rozšíříte. Nevkládejte však bez oprávnění cizí texty.

@@ Řádek 1: / Řádek 1: @@
-'''Fyzikální depozice z plynné fáze''' ({{vjazyce|en}} ''Physical Vapour Deposition'', zkratka '''PVD''') je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik [[chemická depozice z plynné fáze|chemické depozice]], kdy jsou reaktanty v plynné fázi).
+'''Fyzikální depozice z plynné fáze''' ({{Vjazyce|en}} ''Physical Vapour Deposition'', zkratka '''PVD''') je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik [[chemická depozice z plynné fáze|chemické depozice]], kdy jsou reaktanty v plynné fázi).
 Mezi tyto techniky patří:
@@ Řádek 14: / Řádek 14: @@
 {{Pahýl}}
+{{Autoritní data}}
 {{Portály|Fyzika}}