Popis

PopisElectron beam-induced deposition (schematic).png	English: Schematic of electron beam induced deposition process
Datum	13. června 2009 (datum prvotního načtení souboru)
Zdroj	Own work by the original uploader
Autor	Materialscientist
Další verze	K tomuto obrázku existuje vektorová verze (v SVG). Pokud je lepší, používejte raději tu. File:Electron beam-induced deposition (schematic).png → File:Electron beam-induced deposition (schematic).svg Podrobnější informace o vektorové grafice najdete na stránce Commons:Transition to SVG. Také si můžete přečíst informace o podpoře formátu SVG v MediaWiki. V jiných jazycích Alemannisch ∙ Bahasa Indonesia ∙ Bahasa Melayu ∙ British English ∙ català ∙ čeština ∙ dansk ∙ Deutsch ∙ eesti ∙ English ∙ español ∙ Esperanto ∙ euskara ∙ français ∙ Frysk ∙ galego ∙ hrvatski ∙ Ido ∙ italiano ∙ lietuvių ∙ magyar ∙ Nederlands ∙ norsk bokmål ∙ norsk nynorsk ∙ occitan ∙ Plattdüütsch ∙ polski ∙ português ∙ português do Brasil ∙ română ∙ Scots ∙ sicilianu ∙ slovenčina ∙ slovenščina ∙ suomi ∙ svenska ∙ Tiếng Việt ∙ Türkçe ∙ vèneto ∙ Ελληνικά ∙ беларуская (тарашкевіца) ∙ български ∙ македонски ∙ нохчийн ∙ русский ∙ српски / srpski ∙ татарча/tatarça ∙ українська ∙ ქართული ∙ հայերեն ∙ বাংলা ∙ தமிழ் ∙ മലയാളം ∙ ไทย ∙ 한국어 ∙ 日本語 ∙ 简体中文 ∙ 繁體中文 ∙ עברית ∙ العربية ∙ فارسی ∙ +/−

Licence

Materialscientist na projektu Wikipedie v jazyce angličtina, držitel autorských práv k tomuto dílu, ho tímto zveřejňuje za podmínek následujících licencí:

Tento soubor podléhá licenci Creative Commons Uveďte autora-Zachovejte licenci 3.0 Unported

Uveďte autora: Materialscientist na projektu Wikipedie v jazyce angličtina

Dílo smíte:

• šířit – kopírovat, distribuovat a sdělovat veřejnosti
• upravovat – pozměňovat, doplňovat, využívat celé nebo částečně v jiných dílech

Za těchto podmínek:

• uveďte autora – Máte povinnost uvést autorství, poskytnout odkaz na licenci a uvést, pokud jste provedli změny. Toho můžete docílit jakýmkoli rozumným způsobem, avšak ne způsobem naznačujícím, že by poskytovatel licence schvaloval nebo podporoval vás nebo vaše užití díla.
• zachovejte licenci – Pokud tento materiál jakkoliv upravíte, přepracujete nebo použijete ve svém díle, musíte své příspěvky šířit pod stejnou nebo slučitelnou licencí jako originál.

https://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0CC BY-SA 3.0 Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 truetrue

Tento dokument smí být kopírován, šířen nebo upravován podle podmínek Svobodné licence GNU pro dokumenty verze 1.2 nebo libovolné vyšší verze publikované nadací Free Software Foundation. Dokument nemá neměnné části ani texty na předním či zadním přebalu. Kopie textu licence je k dispozici v oddíle nazvaném GNU Free Documentation License.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue

Můžete si zvolit libovolnou z těchto licencí.

Původní historie souboru

• 2009-08-15 11:15 Materialscientist 689×475× (29599 bytes) end of file chunk fixed (hopefully)
• 2009-06-13 10:02 Materialscientist 689×475× (29587 bytes) {{Information |Description = Schematic of electron beam induced deposition process |Source = I created this work entirely by myself. |Date = |Author = ~~~ |other_versions = }} [[Category:Nanotechnology]] [[Category:Ele