Fyzikální depozice z plynné fáze: Porovnání verzí

Z Wikipedie, otevřené encyklopedie
Smazaný obsah Přidaný obsah
m mínus; kosmetické úpravy
Přidán odkaz na stránku o naprašování.
Řádek 6: Řádek 6:
* Depozice elektronovým svazkem
* Depozice elektronovým svazkem
* Pulsní laserová depozice (PLD)
* Pulsní laserová depozice (PLD)
* Naprašování
*[[Naprašování]]


Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve [[vakuum|vakuu]] či kontrolované atmosféře při tlacích 10<sup>−4</sup> až 100&nbsp;[[Pascal (jednotka)|Pa]].
Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve [[vakuum|vakuu]] či kontrolované atmosféře při tlacích 10<sup>−4</sup> až 100&nbsp;[[Pascal (jednotka)|Pa]].

Verze z 10. 10. 2019, 12:30

Fyzikální depozice z plynné fáze (anglicky Physical Vapour Deposition, zkratka PVD) je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik chemické depozice, kdy jsou reaktanty v plynné fázi).

Mezi tyto techniky patří:

  • Vakuové napařování
  • Depozice elektronovým svazkem
  • Pulsní laserová depozice (PLD)
  • Naprašování

Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve vakuu či kontrolované atmosféře při tlacích 10−4 až 100 Pa.