Fyzikální depozice z plynné fáze: Porovnání verzí
Smazaný obsah Přidaný obsah
m mínus; kosmetické úpravy |
Přidán odkaz na stránku o naprašování. značka: editace z Vizuálního editoru |
||
Řádek 6: | Řádek 6: | ||
* Depozice elektronovým svazkem |
* Depozice elektronovým svazkem |
||
* Pulsní laserová depozice (PLD) |
* Pulsní laserová depozice (PLD) |
||
* |
*[[Naprašování]] |
||
Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve [[vakuum|vakuu]] či kontrolované atmosféře při tlacích 10<sup>−4</sup> až 100 [[Pascal (jednotka)|Pa]]. |
Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve [[vakuum|vakuu]] či kontrolované atmosféře při tlacích 10<sup>−4</sup> až 100 [[Pascal (jednotka)|Pa]]. |
Verze z 10. 10. 2019, 12:30
Fyzikální depozice z plynné fáze (anglicky Physical Vapour Deposition, zkratka PVD) je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik chemické depozice, kdy jsou reaktanty v plynné fázi).
Mezi tyto techniky patří:
- Vakuové napařování
- Depozice elektronovým svazkem
- Pulsní laserová depozice (PLD)
- Naprašování
Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve vakuu či kontrolované atmosféře při tlacích 10−4 až 100 Pa.