Fyzikální depozice z plynné fáze: Porovnání verzí

Skočit na navigaci Skočit na vyhledávání
odk, fmt přípr na přesun, zdroje 0, minipahýl
(m, doplnění)
(odk, fmt přípr na přesun, zdroje 0, minipahýl)
'''PVDFyzikální depozice z plynné fáze''' ({{vjazyce|en}} ''Physical Vapour Deposition'', zkratka '''PVD''') je označení skupiny technik vakuové depozice tenkých vrstev. Společným znakem těchto technik je skutečnost, že se zpravidla vychází z pevného substrátu (na rozdíl od technik [[CVDChemická depozice z plynné fáze|CVDChemické depozice]], kdy jsou reaktanty v plannéplynné fázi).
 
Mezi tyto techniky patří:
 
-* Vakuové napařování
-* Depozice elektronovým svazkem
 
-* Pulsní laserová depozice (PLD)
- Depozice elektronovým svazkem
-* Naprašování
 
- Pulsní laserová depozice (PLD)
 
- Naprašování
 
Výše jmenované povlakovací procesy probíhají ve [[vakuum|vakuu]] či kontrolované atmosféře při tlacích 10e-4 až 100 Pa.

Navigační menu